7nm图形晶圆缺陷检测系统
我们的设备应用于200mm和300mm晶圆的7nm集成电路的前道制造,它具有 高产率、高灵敏度暗场缺陷检测的特征,是提升和控制产线良率的理想工具。 系统使用DUV光源、超大数值孔径光子采集聚焦镜头,缺陷检测灵敏度以及产
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所在地:江苏常州市
发布时间:2025-03-17
[采购商]江苏三米科思半导体设备有限公司
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